⚫︎新制作展会場風景

国立新美術館で9月20日から始まった新制作展です。連日、沢山のご来場をいただき心より
感謝申し上げます。

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      糊染め作品ー対比
幅1m50高さ4m近くありますが、天井高5mの
会場では大きさを感じません。
岩を包み込んで凛と立つ樹木のむき出しの根の美しさに感動して、ここ数年モノクロで表現しています。染めた布を2枚縫いあわせ、間にワイヤーを入れて立体感をだしています。


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それぞれが様々な素材を使い、様々な技法で生み出したオリジナル作品をご高覧いただけたら

大変嬉しく思います。

新制作展は10月2日14時修了です。













⚫︎新制作展のお知らせ

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新制作展 9/20〜10/2
新制作協会主催の新制作展、スペースデザイン部門へ出展いたします。

65歳以上無料です。
会場入り口でマイナンバーカードなどの年齢証明書をご提示下さい。
ご高覧いただけたら幸いです。









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プロフィール
すずき あき
東京生まれ
桑沢デザイン研究所インテリアデザイン科卒業
卒業後、着物のロウケツ染、友禅染を学ぶ
1975年独立。約10年にわたり着物のデザイン制作
1984年(伊)フィレンツェ大学へ留学
帰国後、「あき染色スタジオ」設立

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