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1: 経理の智子 ★ 2016/03/19(土) 19:50:51.01 ID:CAP_USER*.net
東芝は2017年度にも、キヤノンと共同開発した次世代半導体露光装置をNAND型フラッシュメモリーの量産ラインに採用することを決めた。
「ナノインプリント露光(用語参照)」技術を使った装置で、量産での利用は電機業界初。東芝はメモリーの製造コスト低減の切り札と位置づけ、経営再建の柱であるメモリー事業の収益力向上につなげる。
キヤノンはナノインプリント露光装置を次世代の主力事業に育てる

続きはソースで
http://www.nikkan.co.jp/articles/view/00378816

引用元:http://ai.2ch.sc/test/read.cgi/newsplus/1458384651/

8: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 19:55:56.01 ID:R4WxZ/rO0.net
それでこれは金になるの?

13: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 19:57:41.92 ID:eNukQlZi0.net
キヤノンとはこういう繋がりもあったわけか

7: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 19:55:10.28 ID:6z8sxpWq0.net
東芝メディカルがCanonに売られたと同時に四日市新工場巨額単独投資を発表した訳が解りましたね~w

17: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:04:35.39 ID:Dq/DcdW80.net
プロセスが減るだけで、そのままコストが半分になるわけちゃうんだけどね。
歩留まりとかどうなんだろ。

18: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:05:31.71 ID:aUF1WEdt0.net
これが致命傷になるんだろ

42: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:26:52.99 ID:W67Zhtnp0.net
歩留まりどうなの?
高品質を維持できるのかな?

34: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:19:02.08 ID:yCI6BZgK0.net
東芝とキヤノンはこの技術で世界最先端だから採用するのも当然だろ。
ただインテルやサムスンなど世界最大手が採用しないとマイナーのままになりそうではある。

38: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:22:13.41 ID:Dq/DcdW80.net
>>34
マイナーでもマーケットシェア取れるならアドバンテージあるんじゃないの?
というか、メモリーのような繰り返しパターン向けのようだし、インテル関係なくね?

47: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:34:29.56 ID:CnoYhGJ70.net
1000層くらい重ねれば容量10倍食ってもお釣りが来るだろ
考え方を変えるんだ

それがイノベーションよ

53: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:46:44.64 ID:PtLkyumK0.net
>>47
半導体に細い線をつなげてるから限界があるんじゃないか
積層しても信号の入出力が出来ないと意味が無いし

55: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:50:25.64 ID:CnoYhGJ70.net
>>53
バス部分だけ配線太くするとか工夫は必要だろうね

56: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:51:48.35 ID:60CqTBI10.net
>>53
セルからのセンスアンプへの電流へたりで閾値誤差が出てセルへの書込み不足や読み遅れが出たりして大変だよね。
微細化地獄から開放されたと思ったら積層化地獄で何も開放されてなかった。

50: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:38:06.63 ID:9W2hitSF0.net
キヤノン:テクノロジー ナノインプリント
http://web.canon.jp/technology/future/nanoimprint-lithography.html#top

54: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:48:13.70 ID:9W2hitSF0.net
SEMICON West 2015リポート(12):ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演(5)
~インプリント装置の開発ロードマップ (1-3) - EE Times Japan
http://eetimes.jp/ee/articles/1509/18/news069.html

91: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 23:18:29.38 ID:4IK1QD3o0.net
ナノインプリントの歩留まり問題は大丈夫なのか?

16: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:03:59.26 ID:3z40MP/g0.net
ナノインプリントは半導体回路パターンをハンコでペタペタ押していく技術
パターン投影にレンズを何枚も重ねた複雑な光学系を使う既存の露光装置より安上がり

でも所詮ハンコなので押したときにパターンの一部が欠けたり潰れたりは避けられない
メモリは同じパターンの繰り返しが多いので少々欠けても動くから使えるという話
ロジック系の回路は形が複雑なのでナノインプリントでペタペタ作るのは難しい

31: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:14:40.68 ID:6z8sxpWq0.net
>>16
レンズってガラス板のことかな?
不良解析してガラス板作り直しになった時に怒られたなぁ。
メモリは殆ど手書きのアナログだよ。
なので設計とレイアウトの連携が大切。

39: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:24:37.95 ID:oaLpgBz80.net
>>31
光学系はカール・ツァイスとかキヤノン、ニコンとかだよ
ガラス板はフォトマスクな
特殊ガラスだな
凹凸が無いように何十時間と磨き上げた一枚数百万とかするガラス板だな
作り直しってのは磨きなおしだからコストがかかる
シリコンウエハも露光とか失敗すると磨きなおしになるけど
フォトマスクほどコストがかかることでもないからたいしたことじゃない

64: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 21:18:28.87 ID:Ji8StxSD0.net
これはすごいな

65: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 21:20:27.57 ID:9r2tZ6Hy0.net
東芝メディカルと露光装置
富士フィルムが質問条送りたくなったのはこれか?

73: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 21:49:10.99 ID:qmnqGlSM0.net
2017年度に量産ラインに導入って、、、

競争の激しいフラッシュメモリ業界で一年以上先の話

しかも東芝はそこまでに倒産しかねないのに

そもそもASMLに追い付けるはずない

74: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 21:57:12.83 ID:TW5cAfFh0.net
>>1
いっそのこと、東芝とCanonが合併しちゃえば?

84: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 22:37:43.62 ID:LD8RAXfv0.net
>>74
最終的に東芝が危機になればそうなるだろ

92: 名無しさん@1周年 2016/03/20(日) 00:20:01.80 ID:dBR3jC+f0.net
ナノインプリントは歩留まりは悪いが、その分装置が小さくて
安いので量産効果でなんとかしのごうとしている。

22: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:09:26.64 ID:lLfOEhLP0.net
露光装置メーカー3社のなかで一番駄目な子のキャノンさんがまさかの

71: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 21:45:52.41 ID:7KaIv0rS0.net
ニコンがアップはじめますた

24: 名無しさん@1周年 2016/03/19(土) 20:09:45.89 ID:oaLpgBz80.net
キヤノンとニコンもASMLに負けてるわけにはいかないから頑張らないと
まぁ、ASMLのステッパーも日本メーカーのコア部品がたくさん使われてるけど



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