Takuya Sato, Tohru Oishi, and Kohei Torikai *
Org. Lett., Article ASAP DOI: 10.1021/acs.orglett.5b01408
☆導入も除去も簡単
保護基というものは、あり余るほど開発されているようでいて、いざ使おうとするとなかなか条件に合うものが見つからず、困ってしまうことがしばしばです。特にヒドロキシ基の保護基は、ちょっと基質が複雑になるとうまく外れなくなったり、他に影響が出たりして、苦労した経験をお持ちの方は多いと思います。そんな中、なかなか便利そうな保護基が報告されましたのでご紹介します。
著者らの開発したのは、2-ナフチルメチルオキシメチル基という保護基で、NAPOM基と略されます。NAPOM基の導入は簡単で、各種溶媒中DIPEAや2,6-ルチジンなどのアミン存在下、NAPOM-Clと室温で撹拌するだけです。NAPOM-Clは安定な固体で、-20℃なら1年以上分解せずに保存可能です。
この条件で、1~3級アルコール、カルボン酸、チオールなどに90%以上の収率でNAPOM基が導入できます。脱離はDDQによる酸化で行うことができ、塩化メチレン-リン酸バッファ(pH7.0)18:1の溶媒中室温で撹拌することで、きれいにNAPOM基を除去できます。またNAPOM基はかなり酸性条件に耐え、TIPS基を脱離する程度の条件(CSA1当量、メタノール中室温1.5時間)では安定です。
似たような条件で脱離可能な保護基として、2-ナフチルメチル基(NAP)やp-メトキシベンジル基(PMB)がありますが、これらが共存していても選択的にNAPOM基の脱保護ができます。たとえばメタノール-THF中、四臭化炭素で処理することで、NAP基を残してNAPOM基を除去できます。また、硝酸アンモニウムセリウム(CAN)で処理すれば、NAPOM基を残してPMB基を切断できますし、Pd/C触媒で接触水素還元を行えば、逆にPMB基を残してNAPOM基を除去できます。
導入・除去とも温和な条件で、他の保護基との共存も可能な保護基ですので、今後利用が広がるのではないでしょうか。試薬としての販売も期待したいところです。
Org. Lett., Article ASAP DOI: 10.1021/acs.orglett.5b01408
☆導入も除去も簡単
保護基というものは、あり余るほど開発されているようでいて、いざ使おうとするとなかなか条件に合うものが見つからず、困ってしまうことがしばしばです。特にヒドロキシ基の保護基は、ちょっと基質が複雑になるとうまく外れなくなったり、他に影響が出たりして、苦労した経験をお持ちの方は多いと思います。そんな中、なかなか便利そうな保護基が報告されましたのでご紹介します。
著者らの開発したのは、2-ナフチルメチルオキシメチル基という保護基で、NAPOM基と略されます。NAPOM基の導入は簡単で、各種溶媒中DIPEAや2,6-ルチジンなどのアミン存在下、NAPOM-Clと室温で撹拌するだけです。NAPOM-Clは安定な固体で、-20℃なら1年以上分解せずに保存可能です。
この条件で、1~3級アルコール、カルボン酸、チオールなどに90%以上の収率でNAPOM基が導入できます。脱離はDDQによる酸化で行うことができ、塩化メチレン-リン酸バッファ(pH7.0)18:1の溶媒中室温で撹拌することで、きれいにNAPOM基を除去できます。またNAPOM基はかなり酸性条件に耐え、TIPS基を脱離する程度の条件(CSA1当量、メタノール中室温1.5時間)では安定です。
似たような条件で脱離可能な保護基として、2-ナフチルメチル基(NAP)やp-メトキシベンジル基(PMB)がありますが、これらが共存していても選択的にNAPOM基の脱保護ができます。たとえばメタノール-THF中、四臭化炭素で処理することで、NAP基を残してNAPOM基を除去できます。また、硝酸アンモニウムセリウム(CAN)で処理すれば、NAPOM基を残してPMB基を切断できますし、Pd/C触媒で接触水素還元を行えば、逆にPMB基を残してNAPOM基を除去できます。
導入・除去とも温和な条件で、他の保護基との共存も可能な保護基ですので、今後利用が広がるのではないでしょうか。試薬としての販売も期待したいところです。